美国NXQ紫外掩膜光刻机

    美国NXQ紫外掩膜光刻机 产品概述：

NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，稳定的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使NXQ光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用。

    美国NXQ紫外掩膜光刻机 技术参数：

● 芯片尺寸：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；

● 曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；

● 汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；

● 分辨率：优于0.5um；

● 曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；

● 出射光强范围：10mW/cm²~55mW/cm²@405nm；

● 支持恒定光强或恒定功率模式；

● 曝光时间：0.1~999.9s；

● 对准精度：双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；

● 掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)；

● 光强均匀性Uniformity：

    <±1% over 2" 区域；

    <±2% over 4" 区域；

    <±3% over 6" 区域；

● 双面光刻：具备背面红外对准（IR BSA）和光学背面对准（OBS BSA），双面对准精度≤2μm；

● 电源：高灵敏度光强可控电源。

● 可选型号：NXQ400-6  、NXQ400-8、NXQ800-6、NXQ8006 Sapphire、NXQ800-8 。

    产品特点：

● 可选支持单面对准和双面对准设计；

● 高清晰彩色双CCD镜头采用先进的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；

● 双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；

● 高清彩色双显示屏；

● 全新气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；

● 具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；

● 操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；

● 操控手柄调控模式的*设计；

● 采用LED穿透物镜照明技术，具有优秀的对准亮度；

● 采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；

● 抗衍射反射的高效光学光路设计；

● 带安全保护功能的温度和气流传感器；

● 全景准直透镜光线偏差半角:<1.84度；

● 设备稳定性，耐用性超高；