匀胶机有很多种称谓，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又称旋涂机、甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机。

在微纳米加工技术中，湿法刻蚀也是一种重要的图形转移方式，其特点是选择性好、重复性高、效率高、设备简单、成本低廉，缺点则是对图形转移的控制性较差、难以适应纳米级图形的加工、产生化学废液等。

光刻胶主要是由成膜树脂、光引发剂、溶剂为主要成分的，还包含有抗氧化剂，均匀剂和增粘剂等辅助成分。

成膜树脂：

      以正胶为例，大部分正性光刻胶的树脂是酚醛树脂，一种苯酚和甲醛合成的树脂，其分子链的长度是光刻胶性能的关键调节因素：长的分子链可以提高这热稳定性，减少残膜率和显影速率，而短的分子链能提高粘度，而光刻胶是由这些混合的树脂依靠着这些物理和化学特性组合而成的。

光引发剂：

      以i线正胶为例，其光引发剂是一种带有重氮萘醌基团的化合物，在经过曝光后转化为一种羧酸，伴随着氮气的释放和水分的吸收，其在碱溶液中的溶解速率增加了三个数量级。混入该化合物后的线性酚醛树脂，即可通过曝光来改变其在弱碱性溶液中的溶解速率，以达到图形化的目的。

溶剂：

      几乎所有的正性光刻胶的溶剂是PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)，光刻胶大约55-65%的原料就为此溶剂，具有很好的溶解性，适合将成膜树脂和光引发剂液化以便于旋转涂敷。其沸点高达145℃，常温下挥发性低，是一种稳定的溶剂。在烘烤过程中，该溶剂可以充分挥发，否则剩余的溶剂会影响光刻胶的性质：在显影液中，PGM