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首页 >> 产品目录 >>半导体耗材 >> mr-NIL210纳米压印光刻胶
详细说明

mr-NIL210纳米压印光刻胶

【mr-NIL210纳米压印光刻胶】具有出色的固化和纳米压印性能,特别适用于使用软印模材料(例如PDMS)的软NIL,可替代mr-UVCur06纳米压印光刻胶(已停产)。

保质期
产品型号 mr-NIL210
  • 产品说明

mr-NIL210纳米压印光刻胶具有出色的固化和纳米压印性能,特别适用于使用软印模材料(例如PDMS)的软NIL,可替代mr-UVCur06纳米压印光刻胶(已停产)。

mr-NIL210纳米压印光刻胶 特征:
• 在空气中(存在氧气)也具有出色的固化性能;
• 对各种基材(如硅,石英或铝)具有良好的干法刻蚀稳定性;
• 纯有机抗蚀剂,固化后可通过氧等离子体去除残留物;

Processing Details:

mr-NIL210纳米压印胶-处理细节.jpg

Processing Scheme:

mr-NIL210纳米压印胶-工艺方案.jpg

Film thickness and spin curves:

mr-NIL210 Film thickness and spin curves.jpg

应用领域:
• 蚀刻掩模,用于图案转印工艺(干法和湿法蚀刻)
• 纳米结构的制造
• LED,光子晶体
• 图案蓝宝石衬底(PSS)
• 微电子学
• 有机电子产品(OLED,OPV,OTFT)

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