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首页 >> 产品目录 >>半导体耗材 >> Micro Resist电子束及深紫外光刻胶
详细说明

Micro Resist电子束及深紫外光刻胶

德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束及深紫外光刻胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。

产品型号 ma-N 2400系列
  • 产品说明

一、简介

德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束及深紫外光刻胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。


二、电子束及深紫外光刻胶 产品介绍:

品牌产地
型号曝光特点
Micro Resist德国ma-N 2400系列电子束

和深紫

外曝光

电子束和深紫外灵敏;
非常适合作为刻蚀掩模,抗干刻、湿刻性能;
图案良好的热稳定性;
优异的图案分辨率-50 nm以下;
碱性水溶液下显影;
mr-EBL 6000电子束曝光
电子束和深紫外灵敏;
非常适合作为刻蚀掩模,抗干刻、湿刻性能;
光胶图案良好的热稳定性;
优异的图案分辨率-80 nm以下;碱性水溶液下显;












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