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Wet Etching-湿法刻蚀
  • 硅(Sillicon)湿法刻蚀方案

    在微纳米加工技术中,湿法刻蚀也是一种重要的图形转移方式,其特点是选择性好、重复性高、效率高、设备简单、成本低廉,缺点则是对图形转移的控制性较差、难以适应纳米级图形的加工、产生化学废液等。

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